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第二十三章高峰实在是太想进步了（第1页）

1.光刻机。

光刻机作为芯片产业的核心装备，有人称它为“人类最精密复杂的机器”。

光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高。

主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商。

2.光刻胶。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。

目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。

光刻胶同样是半导体行业的关键技术之一，属于原材料的一种，而且和光刻机的联系非常密切。

3.EDA工业软件。

从一般意义上讲，所有跟电子设备和装备相关的设计，仿真，验证，实验等相关都可以纳入EDA的范畴，类似于CAE。

从纳米级的器件晶体管，到IC集成电路，PCB，显卡，收音机，家用电器，手机电脑，车载电子系统，天线，大型相控阵雷达，其实都和EDA相关。

4.高端医疗器械。

医疗器械作为现代医疗卫生体系建设的重要支柱之一，具有高度的战略性、带动性和成长性……

5.工业机器人。

……

一口气翻了好几个回答，最终高峰找出了它们之中的共性！

光刻机！

这个回答，在很多个这样的问题下面都会频繁出现。

而且根据他所知，现在的社会离不开芯片的支持，任何的智能终端产品都需要搭载芯片，而光刻机就是制造芯片的重要工具。

在芯片制造过程中，需要将设计好的芯片图案复刻在晶圆表面，但即便是28nm，14nm的成熟芯片也会集成几十亿根晶体管。

如何在有限的单位面积内曝光更多的晶体管数量，让每根晶体管纵横交错，甚至在上百个层级中错落有致，这就需要光刻机运用深紫外或极紫外光源来实现了。

以EUV光刻机为例，波长为13.5nm，运用多重曝光可以轻松完成7nm及以下的高端芯片制造。

只不过目前全球只有郁金香国的ASML一家公司掌握EUV光刻机量产技术，这也是许多国家争相突破和发展的目标。

但其实，在前两年的时候，他们龙国就已经研究出了7nm的蚀刻机，这意味着国内现在距离成功造出7nm的芯片又近了一步。

只是研究出7nm的蚀刻机依然不行，他们依然还需要7nm的光刻机。

因为在芯片界里面有个特别著名的定律，名为摩尔定律，即集成电路上可以容纳的晶体管数目大约每24个月增加一倍，当然对应的理论性能也能增加一倍。

而想要在同样尺寸的芯片上增加晶体管数量，就是得把晶体管做小，提高晶体管密度。

为此就需要更加精密的刻刀，光刻机。

所谓7nm光刻机就是光刻机能刻蚀的最大分辨率。

高峰一直看到最后，直到他看到最后那句话的时候，他的眼睛止不住地瞪大。

光刻机是在挑战人类文明的极限，是人类工艺的巅峰之作。

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