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第129章 开启光刻之路（第2页）

光学系统：

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提取1986年蔡司镜头设计图纸（na=0.42）；

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提供多层抗反射膜镀膜工艺。

光学系统是光刻机的核心之一，直接影响着光刻机的分辨率和成像质量。系统提取的1986年蔡司镜头设计图纸，让贾东旭如获至宝。蔡司作为全球光学领域的巨头，其镜头设计技术一直处于世界领先水平。有了这份图纸，贾东旭在光学系统的研发上就有了坚实的基础。同时，系统提供的多层抗反射膜镀膜工艺，能够有效减少光线反射，提高光学系统的效率和成像质量，进一步提升了光刻机的性能。

“这蔡司镜头设计图纸和多层抗反射膜镀膜工艺，简直就是雪中送炭啊！”贾东旭兴奋地说道，仿佛已经看到了成功的曙光。

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机械系统：

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输出高精度气浮工作台技术（定位精度±0.01μm）；

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提供精密温控方案（±0.01c）。

机械系统的精度和稳定性对于光刻机同样至关重要。高精度气浮工作台技术，能够实现晶圆的高精度定位和运动，定位精度达到了±0.01μm，这在当时是非常先进的技术水平。精密温控方案则能够保证光刻机在工作过程中，各个部件的温度稳定在±0.01c的范围内，避免因温度变化而导致的机械变形和精度下降。

“有了这两项技术，机械系统的问题就能迎刃而解了。”贾东旭对机械系统的研发充满了信心。

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控制系统：

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引入基于处理器的运动控制算法；

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提供自动对准系统（overlay精度±0.1μm）。

控制系统是光刻机的大脑，负责协调各个部件的工作，实现光刻过程的自动化和高精度控制。基于处理器的运动控制算法，能够快速准确地控制气浮工作台的运动，保证晶圆在光刻过程中的位置精度。自动对准系统则能够实现晶圆与掩膜版的自动对准，overlay精度达到了±0.1μm，大大提高了光刻的效率和精度。

“这些技术真是太强大了！”贾东旭感叹道，“有了系统的支持，我们离成功又近了一步。”

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